2026/09/08 更新

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ヌマタ　トシノリ
沼田　敏典
Toshinori Numata
所属
大学院工学研究科 電子情報分野 機能半導体デバイス研究室 教授   
学位
博士（工学） （ 2006年3月   大阪大学 ）

研究分野

  • ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電気電子材料工学

主な研究論文

  • SPICE-based performance analysis of Trigate silicon nanowire CMOS circuits

    C. Tanaka*, M. Saitoh*, K. Ota*, K. Uchida*, and T. Numata

    IEEE Transactions on Electron Devices   60 ( 4 )   1451   2013年4月1日

    Threshold voltage control by substrate bias in 10-nm-diameter tri-gate nanowire MOSFET on ultrathin BOX

    K. Ota*, M. Saitoh*, C. Tanaka*, and T. Numata

    IEEE Electron Device Letters   34 ( 2 )   187   2013年2月1日

    Impact of mechanical stress on gate tunneling currents of germanium and silicon p-type metal-oxide-semiconductor field-effect transistors and metal gate work function

    Y. S. Choi*, T. Numata, T. Nishida*, R. Harris*, and S. E. Thompson*

    Journal of Applied Physics   103   064510   2008年3月24日

    Performance Enhancement of Partially and Fully Depleted Strained-SOI MOSFETs

    T. Numata, T. Irisawa*, T. Tezuka*, J. Koga*, N. Hirashita*, K. Usuda*, E. Toyoda*, Y. Miyamura*, A. Tanabe*, N. Sugiyama*, and S. Takagi*

    IEEE Transactions on Electron Devices   53 ( 5 )   1030   2006年5月1日

    Device Design For Subthreshold Slope and Threshold Voltage Control in Sub-100-nm Fully Depleted SOI MOSFETs

    T. Numata and S. Takagi*

    IEEE Transactions on Electron Devices   51 ( 12 )   2161   2004年12月1日

経歴

  • 豊田工業大学   大学院工学研究科 電子情報分野 機能半導体デバイス研究室   教授

    2024年1月 - 現在

  • 横浜国立大学   非常勤講師

    2023年4月 - 2023年12月

  • 東京都市大学   非常勤講師

    2021年4月 - 2023年12月

  • キオクシア(株)   グループ長

    2019年4月 - 2023年12月

  • 東芝メモリ(株)   参事

    2017年4月 - 2019年3月

  • 東京都市大学   非常勤講師

    2015年4月 - 2018年3月

  • Interuniversity Microelectronics Centre (imec)   On-siete Manager

    2012年5月 - 2015年3月

  • University of Florida   Visiting Schalar

    1997年7月 - 1998年12月

  • (株)東芝   研究開発センター   研究員

    1997年4月 - 2017年4月

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学歴

  • 大阪大学   工学研究科   電子工学専攻

    1995年4月 - 1997年3月

  • 大阪大学   工学部   電子工学科

    1991年4月 - 1995年3月

所属学協会

  • Institute of Electical and Electronics Engineers (IEEE)

  • 応用物理学会

委員歴

  • 公益社団法人 応用物理学会   2026年国際固体素子・材料コンファレンス 論文委員  

    2026年1月 - 2026年12月   

  • 国立研究開発法人 科学技術振興機構   日ASEAN科学技術・イノベーション協働連携事業 アドバイザー  

    2025年3月 - 2027年3月   

  • 公益社団法人 応用物理学会   2025年国際固体素子・材料コンファレンス 論文委員  

    2025年1月 - 2025年12月   

  • 次世代電子デバイスのための誘電体 薄膜-科学と技術に関する2025 年国際ワークショップ   プログラム委員会委員  

    2024年9月 - 2025年11月   

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研究テーマ

  • SiC MOS構造を用いた量子センサの研究開発

    岩田　直高, VILLAMIN　Maria　Emma　, 沼田　敏典, 大下　祥雄, 中河西　翔

    2024年度 - 現在

    　詳細

    SiCデバイスの故障を検知するセンサの実現を目指して、SiC MOS構造に導入した欠陥を利用した量子センサを開発する。

    成果：

    2025年度
    透明電極/酸化膜/SiC構造を用いてマイクロ波を導入する導波路とバイアス印加のための電極を設けた素子構造の設計と4インチウエハスループロセスのマスクリファインおよびプロセス最適化して２次試作を完了した。最適デバイス構造に向けた特性評価を実施した。

    2024年度
    透明電極/酸化膜/SiC構造を用いてマイクロ波を導入する導波路とバイアス印加のための電極を設けた素子構造の設計と4インチウエハスループロセスの構築を行った。要素プロセスの検討を終え、1次試作を完了した。初期的な評価で動作を確認した。

  • 強誘電体ゲート絶縁膜トランジスタおよび薄膜材料の研究

    沼田　敏典, 大下　祥雄, 中河西　翔, RAJADURAI　Abimaheshwari

    2023年度 - 現在

    　詳細

    従来のシリコンMOSトランジスタの高性能化のため、ゲート絶縁膜に強誘電体膜を用いたトランジスタの研究開発を行う。そのための薄膜材料の探索やトランジスタ試作評価を進める。

    成果：

    2025年度
    ALD-Ga2O3膜の形成過程をab-inito計算で検討して、TDMAG原料による吸着安定性について明らかにした。

    2024年度
    本学ALD装置を用いてシリコン基板上にGa2O3を成膜して膜構造を解析。常誘電性薄膜が形成でき、MOSキャパシタ動作を実証した。

    2023年度
    2024年1月に着任して研究室を開設。本テーマに関わる研究を進めるため、成膜原料ガス分解特性装置の仕様を策定した。

  • 新チャネル材料先端MOSトランジスタに関する研究

    沼田　敏典, 中河西　翔

    2025年度 - 現在

    　詳細

    新チャネル材料を用いたMOSトランジスタ特性をTCADシミュレーションを用いて検討する。Ge半導体の最先端MOSトランジスタ構造への適用可能性を明らかにする。

    成果：

    2025年度
    デバイスシミュレータを立ち上げ、Planer型MOSトランジスタ構造を作製。Geを適用したことによるトランジスタ特性をSiと比較検討し、Ge由来のIon電流向上などを確認した。

  • テスト

    沼田　敏典, 中河西　翔

    2024年度 - 2027年度

    　詳細

    あいう

    成果：

    2025年度
    テスト

    2024年度
    テスト

論文

  • Slit-loaded coplanar waveguide for color-center spin qubits 査読

    Haruko Toyama, Kosuke Tahara, Taro Ikeda, Hiroya Tanaka, Atsushi Miura, Shin-ichi Tamura, Maria Emma Villamin, Toshinori Numata, Naotaka Iwata, Yuichi Yamazaki, Takeshi Ohshima, Katsuhiro Kutsuki, Hideo Iizuka

    Physical Review Applied   24   054042   2025年11月

    　詳細

    掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： https://doi.org/10.48550/arXiv.2506.16128

講演・口頭発表等

  • Reaction InGa2O3 Formation by ALD Processes with a Dialkylamido-Based Precursor 国際会議

    Shodai Shinkai, Sho Nakosai, Ichiro Hayamizu, Tomoki Otani, Hideaki Machida, Atsushi Ogura, Yoshio Ohshita, Toshinori Numata

    250th ECS Meeting  ( BMO Centre, Calgary, Canada )   2026年10月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年10月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • TCAD Analysis of the On-State Performance of Ge-Channel Nanosheet pFETs: Impact of Carrier Velocity Saturation 国際会議

    Atsushi Takahashi, Sho Nakosai, Komachi Matsuda, Haruki Takeuchi, Junichi Hattori, Tatsuro Maeda, Toshinori Numata

    The 9th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon and Related Materials  ( Chateraise Hotel Nagano, Japan )   2026年10月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年10月

    会議種別：ポスター発表  

  • Temperature-Dependent Structural Evolution of PEALD Ga2O3 Thin Films During Post-Deposition Annealing 国際会議

    Ichiro Hayamizu, Sho Nakosai, Shodai Shinkai, Abimaheshwari Rajadurai, Atsushi Ogura, Yoshio Ohshita, Toshinori Numata

    The 9th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon and Related Materials  ( Chateraise Hotel Nagano, Japan )   2026年10月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年10月

    会議種別：ポスター発表  

  • (Invited) Exploring Semiconductor Innovations through Shared Cleanroom Infrastructure: From Novel Materials to Smart Processing and Devices 招待 国際会議

    Toshinori Numata

    The 2nd Vietnam–Japan Semiconductor Symposium 2026 (VJSS-2026)  2026年9月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年9月

    会議種別：口頭発表（招待・特別）  

  • ダイマー型アミド系プリカーサによるALDプロセスGa2O3膜の形成要因

    新海 翔大、中河西 翔、早水 一朗、大谷 知輝、町田 英明、小椋 厚志、大下 祥雄、沼田 敏典

    第4回シリコン系半導体ニューフロンティア研究会  ( 豊田工業大学 )   2026年5月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年5月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • SiC MOSキャパシタにおけるALD法SiO2ゲート絶縁膜形成プロセスの検討

    齊藤 祐希、中河西 翔、沼田 敏典

    第4回シリコン系半導体ニューフロンティア研究会  ( 豊田工業大学 )   2026年5月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年5月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • GeチャネルによるMOSトランジスタ特性への影響

    松田 小町、中河西 翔、髙橋 淳、服部 淳一、前田 辰郎、沼田 敏典

    第4回シリコン系半導体ニューフロンティア研究会  ( 豊田工業大学 )   2026年5月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年5月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • ALDプロセスε-Ga2O3膜形成に向けたアミド系プリカーサの反応機構

    新海 翔大、中河西 翔、早水 一朗、大谷 知輝、町田 英明、小椋 厚志、大下 祥雄、沼田 敏典

    第73回応用物理学会春季学術講演会  ( 東京科学大学 大岡山キャンパス＆オンライン )   2026年3月 

    　詳細

    開催年月日： 2026年3月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • SiO2/SiC界面におけるカラーセンターのエネルギー準位についての評価

    井上 雄太、中河西 翔、沼田 敏典

    シリコン系半導体ニューフロンティア研究会  ( 豊田工業大学 )   2025年11月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年11月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • SiO2/SiC低温プロセスにおける欠陥抑制手法の検討

    齊藤 祐希、中河西 翔、沼田 敏典

    シリコン系半導体ニューフロンティア研究会  ( 豊田工業大学 )   2025年11月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年11月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • Ga2O3薄膜形成におけるALD成膜原料および成膜温度の影響

    新海 翔大、早水 一朗、中河西 翔、沼田 敏典

    シリコン系半導体ニューフロンティア研究会  ( 豊田工業大学 )   2025年11月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年11月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • GeチャネルMOSFETのデバイス設計検討

    松田 小町、髙橋 淳、中河西 翔、沼田 敏典

    シリコン系半導体ニューフロンティア研究会  ( 豊田工業大学 )   2025年11月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年11月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • 固体量子センサの社会実装に向けた特化型テストベッド開発－デバイス診断技術への応用－

    (豊田中研) 田村, 田原, 遠山, 三浦, 朽木, (京セラ) 岸田, 平山, (電中研) 土田, (豊田工大) 沼田, 岩田, (QST) 山崎, 大島

    SIP第３期「先進的量子技術基盤の社会課題への応用促進」とBRIDGE量子関連施策連携 公開シンポジウム2025  ( イイノホール＆カンファレンスセンター（東京都千代田区） )   2025年10月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年10月

    会議種別：ポスター発表  

  • SnO2 Thin Film as In-Free Transparent Conductive Oxide and Electron Transport Layer Deposited by Low-Temperature ALD 国際会議

    Masaki Ando, Yoshio Ohshita, Toshinori Numata, Hyunju Lee, Hideaki Machida, Takuya Minowa, Atsushi Ogura

    42nd European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition (EUPVSEC2025)  ( Bilbao Exhibition Center, Spain )   2025年9月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年9月

    会議種別：ポスター発表  

  • カラーセンタのスピン制御のための小型マイクロ波導波路の開発

    遠山 晴子、田原 康佐、池田 太郎、田中 宏哉、三浦 篤志、田村 伸一、Villamin Maria Emma、沼田 敏典、岩田 直高、山崎 雄一、大島 武、朽木 克博、飯塚 英男

    第86回応用物理学会秋季学術講演会  ( 名城大学天白キャンパス＆オンライン )   2025年9月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年9月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • 新規Sn原料を用いたMOALD-SnO2膜の評価

    安藤 昌輝、大下 祥雄、沼田 敏典、Lee Hyunju、町田 英明、小椋 厚志

    第86回応用物理学会秋季学術講演会  ( 名城大学天白キャンパス＆オンライン )   2025年9月 

    　詳細

    開催年月日： 2025年9月

    会議種別：口頭発表（一般）  

  • 低消費電力スマートデバイスに向けたMOSトランジスタ技術の開発

    沼田 敏典

    第16回スマートエネルギー技術研究センターシンポジウム  ( 豊田工業大学 豊田喜一郎記念ホール )   2024年10月 

    　詳細

    開催年月日： 2024年10月

    会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

  • Novel Sn CVD Precursor for Depositing SnO2 Thin Film as Transparent Conductive Oxide 国際会議

    Yoshio Ohshita, Toshinori Numata, Atsushi Ogura*, Hyunju Lee*, Hideaki Machida*

    41st European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition (EUPVSEC2024)  ( Austria Center Vienna, Vienna, Austria )   2024年9月 

    　詳細

    開催年月日： 2024年9月

    会議種別：ポスター発表  

  • Low temperature ALD of SnO2 thin film as In-free electron transport layer 国際会議

    Takuya Minowa*, Yoshio Ohshita, Toshinori Numata, Hyunju Lee*, Hideaki Machida*, Masaki Ando*, Atsushi Ogura*

    31st Workshop on Crystalline Silicon Solar Cells and Modules: Materials and Processes  ( Beaver Run Resort, Breckenridge, Colorado, USA )   2024年7月 

    　詳細

    開催年月日： 2024年7月

    会議種別：ポスター発表  

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その他研究活動

  • 豊田工業大学　ナノテクノロジーセンター

    2025年12月

    　詳細

    SEMICOM JAPAN 2025 東京ビックサイト 2025年12月17日～19日 出展

担当科目（学内） ※授業フィードバックは学内ネットワークからのみ閲覧可能です。

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社会貢献活動

  • 個別企業向け半導体プロセス実習・講習会

    役割：講師

    2026年3月

    　詳細

    種別：セミナー・ワークショップ

  • 令和7年度サイエンス体験プログラム　春日井高校

    役割：講師

    2025年10月

    　詳細

    種別：出前授業

  • 第38回 半導体プロセス実習・講習会

    役割：講師

    2025年9月

    　詳細

    種別：セミナー・ワークショップ

  • あいちSTEAM教育推進事業 知の探究講座 2025年度「スマホを支えるミクロの世界と信号処理技術」見えないところで働く電子部品、半導体

    役割：講師

    2025年7月

    　詳細

    種別：研究指導

  • 個別企業向け半導体プロセス実習・講習会

    役割：講師

    2025年3月

    　詳細

    種別：セミナー・ワークショップ

  • 第37回 半導体プロセス実習・講習会

    役割：講師

    2024年9月

    　詳細

    種別：セミナー・ワークショップ

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